添加剂去除方法，添加剂去除装置及镀敷系统

摘要

本发明之镀敷系统具备有：藉由将树脂膜9浸渍于含有模板剂(templating agent)之镀敷液而于树脂膜9上形成镀敷层之镀敷层形成部；及用以自树脂膜9上之镀敷层去除模板剂之去除装置4。去除装置4具备有：贮存用以浸渍树脂膜9之去除液411的去除液槽41、及朝去除液411内之树脂膜9以光进行照射之光照射部42。去除装置4中，藉由利用发自光照射部42的光而促进模板剂自镀敷层之脱离，可有效率地自镀敷层去除模板剂。

主权项

一种添加剂去除方法，系用以自将对象物浸渍于含有添加剂之镀敷液中所形成之上述对象物上的镀敷层，将上述添加剂去除者；其具备有：a)将上述对象物浸渍于贮存在去除液槽中之去除液，或对上述对象物之上述镀敷层连续地赋予去除液之步骤；以及b)与上述a)步骤并行地对上述对象物照射用以促进自上述镀敷层去除上述添加剂的光之步骤。如申请专利范围第1项之添加剂去除方法，其中，上述光包含上述添加剂之吸收波长带中所含有之波长的光。如申请专利范围第1项之添加剂去除方法，其中，上述光包含上述镀敷层之吸收波长带中所含有之波长的光。如申请专利范围第1项之添加剂去除方法，其中，上述光包含紫外线。如申请专利范围第1项之添加剂去除方法，其中，于将上述对象物自上述镀敷液取出后、至上述a)步骤开始为止之间，防止上述对象物之上述镀敷层之乾燥。如申请专利范围第1项之添加剂去除方法，其中，于上述a)步骤刚要进行之前，进而具备对上述对象物照射用以促进自上述镀敷层去除上述添加剂的光之步骤。如申请专利范围第1至6项中任一项之添加剂去除方法，其中，上述添加剂为模板剂(templating agent)。一种添加剂去除装置，系用以自将对象物浸渍于含有添加剂之镀敷液中所形成之上述对象物上的镀敷层，将上述添加剂去除者；其具备有：属于贮存用以浸渍上述对象物之去除液的去除液槽，或属于对上述对象物之上述镀敷层连续地赋予去除液的吐出部之去除液赋予部；对上述去除液槽内之上述对象物、或对自上述吐出部赋予上述去除液的上述对象物，照射用以促进自上述镀敷层去除上述添加剂的光之光照射部。如申请专利范围第8项之添加剂去除装置，其中，来自上述光照射部之光包含上述添加剂之吸收波长带中所含有之波长的光。如申请专利范围第8项之添加剂去除装置，其中，来自上述光照射部之光包含上述镀敷层之吸收波长带中所含有之波长的光。如申请专利范围第8项之添加剂去除装置，其中，来自上述光照射部之光包含紫外线。如申请专利范围第8项之添加剂去除装置，其中，进而具备有用以将属于上述去除液赋予部之上述去除液槽内的上述去除液中所含有之上述添加剂予以去除的去除液再生部。如申请专利范围第8至12项中任一项之添加剂去除装置，其中，上述添加剂为模板剂。一种镀敷系统，系用以在对象物上形成镀敷层者，其具备有：藉由将对象物浸渍于含有添加剂之镀敷液，而在上述对象物上形成镀敷层之镀敷层形成部；以及自上述对象物之上述镀敷层将上述添加剂去除之添加剂去除装置；上述添加剂去除装置系具备有：属于贮存用以浸渍上述对象物之去除液的去除液槽，或属于对上述对象物之上述镀敷层连续地赋予去除液的吐出部之去除液赋予部；对上述去除液槽内之上述对象物、或对自上述吐出部赋予上述去除液之上述对象物，照射用以促进自上述镀敷层去除上述添加剂的光之光照射部。如申请专利范围第14项之镀敷系统，其中，进而具备有：于将上述对象物自上述镀敷层形成部移送往上述添加剂去除装置之中途，对上述对象物供给液体，以防止上述镀敷层之乾燥的液体供给部。如申请专利范围第14或15项之镀敷系统，其中，进而具备有：于将上述对象物自上述镀敷层形成部移送往上述添加剂去除装置之中途，对上述对象物照射用以促进自上述镀敷层去除上述添加剂的光之另一个光照射部。