发明名称 曝光光罩及薄膜图案层的制造方法
摘要 本发明涉及一种曝光光罩,其包括多个光罩单元,各光罩单元包括第一功能区域及包围该第一功能区域的第二功能区域。该第二功能区域在与第一功能区域的交界处具有至少一个向第一功能区域内部突出的突出区域,使该第二功能区域的一部分三边被第一功能区域包围。第一功能区域具有至少一个端角部,该至少一个突出区域位于该至少端角部内。所述的曝光光罩,通过该至少光罩单元第二功能区域的一部分三边被第一功能区域包围,而使该第二功能区域的该部分对应的光阻材料于显影过程得以被保留。本发明还提供一种使用该曝光光罩制造薄膜图案层的方法。
申请公布号 CN101271267B 申请公布日期 2012.09.19
申请号 CN200710086859.9 申请日期 2007.03.21
申请人 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 发明人 周景瑜;王宇宁;陈健宏
分类号 G03F1/00(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I 主分类号 G03F1/00(2012.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种曝光光罩,包括多个光罩单元,其特征在于:各光罩单元包括一第一功能区域及一包围该第一功能区域的第二功能区域,该第一功能区具有可透过用于曝光的光线或可遮挡用于曝光的光线其中之一的功能,该第二功能区具有上述可透过用于曝光的光线或可遮挡用于曝光的光线其中之另一个的功能,该第二功能区域在与第一功能区域的交界处具有至少一个向第一功能区域内部突出的突出区域,使该第二功能区域的一部分三边被第一功能区域包围,该第一功能区域具有至少一个端角部,该至少一个突出区域位于该至少端角部内。
地址 518000 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号