| 发明名称 | 一种抗辐射涂布膜的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种抗辐射涂布膜的制备方法，该方法的步骤为将透明薄膜基片进行表面处理，在处理面上涂布复合胶层；向平均粒径为15nm～300nm的混合纳米粉体中加入分散剂经砂磨机砂磨分散成悬浮液；将所述的悬浮液涂布在透明薄膜基片的复合胶层面上，最后固化成膜即得抗辐射涂布膜。本发明与现有技术相比的优点为：采用本方法生产抗辐射涂布膜，涂料化合物形成的涂层均匀、厚度可控性好且膜层间附着力更好，产品质量性能优异；本方法工艺简单、效率高、成本较低，可实现工业化大规模生产。 | ||
| 申请公布号 | CN102675671A | 申请公布日期 | 2012.09.19 |
| 申请号 | CN201210049298.6 | 申请日期 | 2012.02.29 |
| 申请人 | 苏州金海薄膜科技发展有限公司 | 发明人 | 金国华 |
| 分类号 | C08J7/04(2006.01)I;C09J7/02(2006.01)I;C09J133/00(2006.01)I;C09J171/00(2006.01)I;C09J167/00(2006.01)I | 主分类号 | C08J7/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人 | 柏尚春 |
| 主权项 | 一种抗辐射涂布膜的制备方法，其特征在于：该制作方法的具体步骤如下：将透明薄膜基片进行表面处理，在处理面上涂布复合胶层；向平均粒径为15nm～300nm的混合纳米粉体中加入分散剂经砂磨机砂磨分散成悬浮液；将所述的悬浮液涂布在透明薄膜基片的复合胶层面上，最后固化成膜即得抗辐射涂布膜。 | ||
| 地址 | 215400 江苏省苏州市太仓市浮桥镇老闸区兴闸路8号 | ||