发明名称 PROCEDE DE GRAVURE CHIMIQUE SELECTIVE
摘要 La présente invention se rapporte à un procédé de gravure chimique sélective, par voie humide, d'un substrat en couches minces comprenant une couche de surface en CIGS. La présente invention se rapporte également à un procédé de réalisation de cellules en série dans des modules photovoltaïques en couches minces, mettant enœuvre le procédé de gravure chimique sélective par voie humide selon l'invention. La présente invention se rapporte, en outre, à un procédé pour créer des motifs de dimensions réduites, comme par exemple des interconnexions monolithiques, sur des dispositifs photovoltaïques en couches minces, mettant enœuvre le procédé de gravure chimique sélective par voie humide selon l'invention.
申请公布号 FR2972294(A1) 申请公布日期 2012.09.07
申请号 FR20110000624 申请日期 2011.03.02
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE AT AUX ENERGIESALTERNATIVES 发明人 RAPISARDA DARIO;DUFOURCQ JOEL;PERRAUD SIMON;PONCELET OLIVIER
分类号 H01L27/01 主分类号 H01L27/01
代理机构 代理人
主权项
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