发明名称 Chemisch verstärkte Fotolack-Zusammensetzunig und Verfahren zu ihrer Verwendung
摘要 <p>Fotolack-Zusammensetzungen umfassen ein Gemisch eines Phenolpolymers mit einem Copolymer auf (Meth)acrylatbasis, das frei ist von Ether-enthaltenden und/oder Carbonsäure-enthaltenden Einheiten. Das (Meth)acrylat-Copolymer umfasst ein erstes Monomer, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Alkylacrylat, einem substituierten Alkylacrylat, einem Alkyl(meth)acrylat, einem substituierten Alkylmethacrylat und Gemischen davon, und ein zweites Monomer, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Acrylat, einem (Meth)acrylat oder einem Gemisch davon mit einem säurespaltbaren Estersubstituenten; und einen Fotosäuregenerator. Es werden auch Verfahren zum Herstellen eines Fotolack-Bilds auf einem Substrat mit der Fotolack-Zusammensetzung offenbart.</p>
申请公布号 DE112010003408(T5) 申请公布日期 2012.08.30
申请号 DE20101103408T 申请日期 2010.08.03
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 DIPIETRO, RICHARD ANTHONY;BROCK, PHILLIP JOE;TRUONG, HOA;ALLEN, ROBERT DAVID
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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