| 摘要 |
<p>기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블; 패터닝된 방사선 빔을 기판 상으로 지향시키도록 구성된 투영 시스템; 기판, 또는 기판 테이블, 또는 둘 모두와 투영 시스템 사이에 정의된 공간으로 침지 액체를 공급하고 한정하도록 구성된 액체 핸들링 시스템; 및 상기 액체 핸들링 시스템 아래에서 경로를 통해 상기 기판 테이블의 이동 시, 상기 경로 내의 방향 전환들 간의 거리에 기초하여 상기 액체 핸들링 시스템에 대해 상기 기판 테이블의 동작 속도를 제어하는 제어기를 포함하는 침지 리소그래피 장치가 개시된다.</p> |
