| 发明名称 | 磁控溅射圆柱靶 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种磁控溅射圆柱靶，包括两端带有装配部的圆柱靶体，在所述圆柱靶体的两端装配部的内侧各套装有一个与靶材材质一样的靶帽。依据本实用新型的磁控溅射圆柱靶能够提高靶材整体利用率。 | ||
| 申请公布号 | CN202369634U | 申请公布日期 | 2012.08.08 |
| 申请号 | CN201120507817.X | 申请日期 | 2011.12.08 |
| 申请人 | 山东力诺新材料有限公司 | 发明人 | 蔡新明;柯伟;吴旭林;张化明;韩文敏 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人 | 丁修亭 |
| 主权项 | 一种磁控溅射圆柱靶，包括两端带有装配部（1）的圆柱靶体（3），其特征在于：在所述圆柱靶体（3）的两端装配部的内侧各套装有一个与靶材材质一样的靶帽（2）。 | ||
| 地址 | 251600 山东省济南市商河县石化路10号 | ||