发明名称 光敏印章材料及其生产方法
摘要 本发明公开了一种光敏印章材料及其生产方法,目的是提供一种印图边缘清晰度好并且具备金属高档质感的光敏印章材料及其生产方法;本发明的光敏印章材料中均匀分布有金属粉末;通过将聚烯烃或其共聚物树脂、金属粉末及各种辅料搅拌后,加入可溶性填料,混合均匀形成印章材料原料;再进行高温挤出、模压或注塑成型,溶解可溶性填料并干燥;或者采用胶粘剂将金属粉末混合成液态后淋涂或喷涂于普通印章材料表层;本发明的盖章的清晰度极高,印章材料高档有质感;本发明适用于制造印章领域。
申请公布号 CN102616029A 申请公布日期 2012.08.01
申请号 CN201110035257.7 申请日期 2011.01.30
申请人 温锦光 发明人 温锦光
分类号 B41K1/38(2006.01)I 主分类号 B41K1/38(2006.01)I
代理机构 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 代理人 褚治保
主权项 光敏印章材料,其特征是:所述光敏印章材料中均匀分布有金属粉末。
地址 518033 广东省深圳市福田区深南中路国际文化大厦1108室
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