发明名称 阻隔膜形成装置、阻隔膜形成方法及阻隔膜被覆容器
摘要 一种阻隔膜形成装置,其将具有凹凸部(12a)的容器(12)作为被处理物,在内表面形成阻隔膜,具备:具有包围所述容器(12)的大小的电介质部件(50);覆盖该电介质部件(50)的外周侧的外部电极(13);经由绝缘部件(26)安装于所述容器(12)的口部(11)所处的一侧的所述外部电极(13)的端面,经由排气管(14)对所述容器(12)的内部进行减压的排气机构;从所述排气管(14)侧插入,兼作用于向所述容器(12)内喷出阻隔膜生成用介质气体(19)的气体喷出部的内部电极(17);用于赋予用于在所述外部电极(13)和绝缘部件之间产生放电的电场的电场施加机构。
申请公布号 CN102605350A 申请公布日期 2012.07.25
申请号 CN201210065267.X 申请日期 2007.11.22
申请人 三菱重工食品包装机械株式会社;麒麟麦酒株式会社 发明人 浅原裕司;山越英男;团野实;后藤征司;白仓昌;中谷正树;广谷喜与士
分类号 C23C16/50(2006.01)I;B65D25/14(2006.01)I 主分类号 C23C16/50(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 张宏光
主权项 一种阻隔膜形成装置,其将具有至少一个以上的凹凸部的容器作为被处理容器,在所述被处理容器内表面形成阻隔膜,其特征在于,具备:电介质部件,其具有包围所述容器的大小的空洞;外部电极,其覆盖所述电介质部件的外周侧;排气机构,其经由绝缘部件安装于所述容器的口部所处的一侧的所述外部电极的端面,经由排气管对所述容器内部进行减压;气体喷出部,其用于向所述容器内喷出阻隔膜生成用的介质气体;电场施加机构,其用于施加用于在所述外部电极和接地电极之间产生放电的电场。
地址 日本国爱知县