| 摘要 |
1. Устройство для осаждения одного или более тонких слоев полипараксилилена или замещенного полипараксилилена, включающее нагреваемый испаритель (1) для испарения твердого или жидкого исходного материала, в частности в виде полимера, в частности димера, где к испарителю (1) подводится линия (11) для ввода газа-носителя, где посредством газа-носителя испаренный исходный материал, в частности испаренный полимер, в частности димер, переносится в нагреваемую камеру разложения (2), в частности камеру пиролиза, которая расположена дальше по ходу от испарителя (1) и в которой исходный материал подвергается разложению, в частности до мономера, и включающее камеру осаждения (8), которая расположена дальше по ходу от камеры разложения (2) и включает технологический вход (3) для газа, через который поступает продукт разложения, в частности мономер, переносимый посредством газа-носителя, держатель (4), который содержит охлаждаемую опорную поверхность (4′), расположенную напротив технологического входа (3) для газа, для поддержки подложки (7), которая должна покрываться полимеризованным продуктом разложения, в частности мономером, и технологический выход (5) для газа, через который выходит газ-носитель и неполимеризованная часть продукта разложения, в частности мономера, причем технологический вход для газа образует плоский газораспределитель (3), который содержит нагреваемую газовыпускную поверхность (3′), которая вытянута параллельно опорной поверхности (4′) и содержит множество газовыпускных отверстий (6), распределенных по всей газовыпускной поверхности (3′), отличающееся тем, что активно нагреваемая газовыпускная поверхность |
