发明名称 |
高压水射流清洗装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种高压水射流清洗装置,包括高压水射流发生装置、喷射头,所述的喷射头包括高压水射流喷嘴、外环圆套,高压水射流喷嘴与高压水射流发生装置通过第一管道连通,高压水射流喷嘴外围套设外环圆套,外环圆套的侧壁开有外围环流输入口,外围环流输入口通过第二管道与所述的高压水射流发生装置连通;外环圆套的侧壁开有注气输入口,该注气输入口与一注气系统通过第三管道连通。本实用新型有效地扩大了高压水射流的有效靶距范围,增强了射流的冲击力。 |
申请公布号 |
CN202336445U |
申请公布日期 |
2012.07.18 |
申请号 |
CN201120410401.6 |
申请日期 |
2011.10.25 |
申请人 |
杭州电子科技大学 |
发明人 |
金成柱;潘华辰 |
分类号 |
B08B3/02(2006.01)I |
主分类号 |
B08B3/02(2006.01)I |
代理机构 |
浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 |
代理人 |
周希良;徐关寿 |
主权项 |
高压水射流清洗装置,包括高压水射流发生装置、喷射头,所述的喷射头包括高压水射流喷嘴、外环圆套,高压水射流喷嘴与高压水射流发生装置通过第一管道连通,高压水射流喷嘴外围套设外环圆套,外环圆套的侧壁开有外围环流输入口,外围环流输入口通过第二管道与所述的高压水射流发生装置连通;其特征在于:所述外环圆套的侧壁开有注气输入口,该注气输入口与一注气系统通过第三管道连通。 |
地址 |
310018 浙江省杭州市江干区下沙高教园区2号大街 |