发明名称 高压水射流清洗装置
摘要 本实用新型公开了一种高压水射流清洗装置,包括高压水射流发生装置、喷射头,所述的喷射头包括高压水射流喷嘴、外环圆套,高压水射流喷嘴与高压水射流发生装置通过第一管道连通,高压水射流喷嘴外围套设外环圆套,外环圆套的侧壁开有外围环流输入口,外围环流输入口通过第二管道与所述的高压水射流发生装置连通;外环圆套的侧壁开有注气输入口,该注气输入口与一注气系统通过第三管道连通。本实用新型有效地扩大了高压水射流的有效靶距范围,增强了射流的冲击力。
申请公布号 CN202336445U 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN201120410401.6 申请日期 2011.10.25
申请人 杭州电子科技大学 发明人 金成柱;潘华辰
分类号 B08B3/02(2006.01)I 主分类号 B08B3/02(2006.01)I
代理机构 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人 周希良;徐关寿
主权项 高压水射流清洗装置,包括高压水射流发生装置、喷射头,所述的喷射头包括高压水射流喷嘴、外环圆套,高压水射流喷嘴与高压水射流发生装置通过第一管道连通,高压水射流喷嘴外围套设外环圆套,外环圆套的侧壁开有外围环流输入口,外围环流输入口通过第二管道与所述的高压水射流发生装置连通;其特征在于:所述外环圆套的侧壁开有注气输入口,该注气输入口与一注气系统通过第三管道连通。
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