| 发明名称 | 一种用于抛光合金相变材料的化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于抛光合金相变材料的化学机械抛光液，该抛光液含有水、研磨颗粒、氧化剂和去除速率促进剂；所述促进剂为一种或多种可溶性含钨化合物。本发明通过向抛光液中加入经优选的去除速率促进剂，可在提高GST（锗－锑－碲）合金去除速率的同时保持较低的SiO2去除速率，且使得抛光液对GST材料的静态腐蚀保持在较低的水平。 | ||
| 申请公布号 | CN102559056A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201010591176.0 | 申请日期 | 2010.12.16 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 庞可亮 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种用于抛光合金相变材料的化学机械抛光液，其特征在于，包含水、研磨颗粒、氧化剂和去除速率促进剂；所述促进剂至少包括一种或多种可溶性含钨化合物。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区龙东大道3000号浦东高科技园区5号楼613 | ||