发明名称 |
基板处理装置及基板处理方法 |
摘要 |
本发明涉及基板处理装置,详言之,涉及实施对基板进行蚀刻等基板处理的基板处理装置及基板处理方法。本发明公开了一种基板处理装置,该基板处理装置包括:处理室,形成用于基板处理的处理空间;基板支架,设在上述处理室的内部,用于支撑多个被处理基板以n×m四角形排列放置的托盘,其中,n、m为2以上的自然数,在上述基板处理装置中,在与多个被处理基板被配置而形成的四角形排列的多个顶点中的至少某一个顶点对应的托盘的边角部分,放置包含与上述被处理基板的主要成分相同成分的一个以上的边角伪基板。 |
申请公布号 |
CN102569125A |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201110317379.5 |
申请日期 |
2011.10.18 |
申请人 |
金炳埈 |
发明人 |
金炳埈 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 |
代理人 |
郑青松 |
主权项 |
一种基板处理装置,该基板处理装置包括:处理室,形成用于基板处理的处理空间;基板支架,设在上述处理室的内部,用于支撑多个被处理基板以n×m四角形排列放置的托盘,其中,n、m为2以上的自然数,其特征在于,在上述基板处理装置中,在与多个被处理基板被配置而形成的四角形排列的多个顶点中的至少某一个顶点对应的托盘的边角部分,放置包含与上述被处理基板的主要成分相同成分的一个以上的边角伪基板。 |
地址 |
忠清南道 |