发明名称 一种掺杂电阻率均匀的N型铸造硅单晶及其制备方法
摘要 本发明公开了一种掺杂电阻率均匀的N型铸造硅单晶及其制备方法,其中方法包括如下步骤:将无位错的原料单晶硅块铺满坩埚底部,再将多晶硅料、磷掺杂剂和镓放入坩埚中,升温熔融多晶硅料、磷掺杂剂、镓和靠近多晶硅的部分原料单晶硅块,利用铸造法生长硅单晶体。本发明可以将90%左右高度的N型磷掺杂单晶硅铸锭的电阻率控制在1.0~2.0Ω.cm范围内,有效提高N型单晶硅在制备太阳能电池过程中的利用率,从而显著降低太阳能电池的制造成本,操作简单,易于在光伏产业推广应用。
申请公布号 CN102560646A 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN201210073988.5 申请日期 2012.03.20
申请人 浙江大学 发明人 余学功;肖承全;杨德仁
分类号 C30B29/06(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I 主分类号 C30B29/06(2006.01)I
代理机构 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人 胡红娟
主权项 一种制备掺杂电阻率均匀的N型铸造硅单晶的方法,其特征在于:将无位错的原料单晶硅块铺满坩埚底部,再将多晶硅料、磷掺杂剂和镓放入坩埚中,升温熔融多晶硅料、磷掺杂剂、镓和靠近多晶硅的部分原料单晶硅块,利用铸造法生长硅单晶体。
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