发明名称 一种AZ91镁合金表面薄层厚度均匀处理方法
摘要 本发明公开了一种AZ91镁合金表面薄层厚度均匀处理方法,属于AZ91镁合金表面薄层厚度均匀处理研究领域,本发明在交流等离子体微弧氧化处理方法基础上,通过向处理液中喷入氧气以提高处理液与镁合金反应的均匀性,并在氟化钾浓度为951~953g/L、氢氧化钾浓度为356~358g/L、硅酸钠浓度为126~128g/L、工频交流电压为90~92V、每升处理液氧气喷入量为0.006~0.009L/s条件下,对AZ91镁合金进行41~54秒的交流等离子体微弧氧化表面处理,可在AZ91镁合金表面形成厚度均匀的8~14μm厚的保护薄层。
申请公布号 CN102140664B 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN201110101516.1 申请日期 2011.04.22
申请人 北京交通大学 发明人 杜云慧;张鹏;刘汉武;卢小鹏
分类号 C25D11/30(2006.01)I 主分类号 C25D11/30(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种AZ91镁合金表面薄层厚度均匀处理方法,采用交流等离子体微弧氧化处理方法对AZ91镁合金进行表面处理,其特征在于,在进行表面处理前1分30秒开始向处理液中喷入氧气,并在氟化钾浓度为951~953g/L、氢氧化钾浓度为356~358g/L、硅酸钠浓度为126~128g/L、工频交流电压为90~92V、每升处理液氧气喷入量为0.006~0.009L/s条件下,对AZ91镁合金进行41~54秒的交流等离子体微弧氧化表面处理。
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