发明名称 半导体晶片的制造方法
摘要 本申请公开了一种半导体晶片的制造方法,包括:加热,使金属材料溶解到晶片中的半导体材料中,从而产生半导体-金属化合物;以及冷却,使所产生的半导体-金属化合物逆熔化,而形成金属半导体混合物。根据本发明的实施例,利于得到适用于半导体制造工艺的高纯度晶片。
申请公布号 CN102543671A 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201010591794.5 申请日期 2010.12.08
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 钟汇才;梁擎擎;赵超
分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L21/322(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 倪斌
主权项 一种半导体晶片的制造方法,包括:加热,使金属材料溶解到晶片中的半导体材料中,从而产生半导体‑金属化合物;以及冷却,使所产生的半导体‑金属化合物逆熔化,而形成金属半导体混合物。
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