| 发明名称 | 通过单体真空沉积和聚合获得的静电荷耗散材料 | ||
| 摘要 | 本发明涉及制备静电荷耗散材料的方法，所述方法包括以下步骤：(a)任选地在等离子场中预处理基底；(b)将至少一种单体和至少一种吸湿添加剂闪蒸到真空室中以产生蒸气；(c)冷凝所述基底上的所述蒸气，从而在所述基底上生成由所述单体和所述吸湿添加剂涂层构成的膜；以及(d)固化所述膜的所述单体，从而在所述基底上生成包含吸湿添加剂的聚合物层；其中所述冷凝步骤是在将所述聚合物层限制为约3.0μm的最大厚度的蒸气密度和停留时间条件下进行的。所述静电荷耗散材料可用于保护静电敏感电子元件。 | ||
| 申请公布号 | CN102549210A | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN201080043466.X | 申请日期 | 2010.09.17 |
| 申请人 | 纳幕尔杜邦公司 | 发明人 | B·比斯比斯;I·V·布莱特索斯;N·S·布拉布斯 |
| 分类号 | D06M10/02(2006.01)I;D06M10/08(2006.01)I;D06M13/256(2006.01)I;D06M15/263(2006.01)I;D06M15/21(2006.01)I;A41D13/008(2006.01)I;A41D31/00(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;C08J7/18(2006.01)I;D21H19/16(2006.01)I;H05K9/00(2006.01)I | 主分类号 | D06M10/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 王伦伟;李炳爱 |
| 主权项 | 一种制备静电荷耗散材料的方法，包括以下步骤：(a)任选地在等离子场中预处理基底；(b)将至少一种单体和至少一种吸湿添加剂闪蒸到真空室中以产生蒸气；(c)在所述基底上冷凝所述蒸气，从而在所述基底上生成由所述单体和所述吸湿添加剂涂层构成的膜；以及(d)固化所述膜的所述单体，从而在所述基底上生成包含吸湿添加剂的聚合物层；其中所述冷凝步骤是在将所述聚合物层限制为约3.0μm的最大厚度的蒸气密度和停留时间条件下进行的。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||