发明名称 基于碳化硅三极管的β射线探测器
摘要 本发明公开了一种基于碳化硅三极管的β射线探测器及其制作方法,主要解决了现有β射线探测器灵敏度低,抗辐照性能差和工作电压高的问题。该β射线探测器自上而下依次包括发射极欧姆接触(1)、掺杂浓度为1×1019~3×1019cm-3发射区(2)、厚0.5μm掺杂浓度为1×1017~5×1017cm-3的p型基区外延层(3)、掺杂浓度为5×1014~5×1015cm-3的n型集电区外延层(4)、掺杂浓度为1×1018~7×1018cm-3的n型高掺杂SiC衬底(5)和衬底背面集电极欧姆接触(6),该发射极欧姆接触(1)由一条水平栅条和多条垂直栅条组成,垂直栅条宽h=5μm,其间距是栅宽的8~12倍,水平栅条宽度为垂直栅条宽度的2~10倍,长度是垂直栅条长度的1~10倍。本发明在300℃高温下工作,抗辐射性强,灵敏度高,工作电压低,可用于辐射监测领域。
申请公布号 CN102005486B 申请公布日期 2012.06.27
申请号 CN201010281472.0 申请日期 2010.09.14
申请人 西安电子科技大学 发明人 郭辉;石彦强;张玉明;陈丰平
分类号 H01L31/0248(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/0248(2006.01)I
代理机构 陕西电子工业专利中心 61205 代理人 王品华;朱红星
主权项 一种基于碳化硅三极管的β射线探测器,自上而下依次包括发射极欧姆接触(1)、掺杂浓度为1×1019~3×1019cm‑3发射区(2)、掺杂浓度为1×1017~5×1017cm‑3的p型基区外延层(3)、掺杂浓度为5×1014~5×1015cm‑3的n型集电区外延层(4)、掺杂浓度为1×1018~7×1018cm‑3的n型高掺杂SiC衬底(5)和衬底背面集电极欧姆接触(6),其特征在于基区外延层(3)的厚度仅为0.5μm,发射极(1)为等间距栅状结构,该栅状结构是由一条水平栅条和m条垂直栅条组成,m≥3,垂直栅条宽h=5μm,其间距d是栅宽h的8~12倍,水平栅条的宽度H为垂直栅条宽度h的a倍,2≤a≤10,水平栅条的长度L是垂直栅条长度R的b倍,1≤b≤10。
地址 710071 陕西省西安市太白南路2号