| 摘要 |
【课题】提供一种曝光装置，使对于光罩薄膜及基板的空气的送风状态达到适当，而且使曝光室内对光罩薄膜及基板送风的空气的流体环境达到适当。;【解决手段】在曝光装置1，包括：设于上述曝光室R2内的一侧壁上、沿着成为上述支持框31的光照射侧的面而供给预设温度及湿度之空气的供给口3；设于上述供给口的下方、通过上述支持框与上述载置台30之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口5；设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置4；使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入之同时、调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置2。 |
