| 发明名称 | 用于湿法腐蚀及清洗工艺的兆声波换能装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于湿法腐蚀及清洗工艺的兆声波换能装置，涉及声波换能器技术领域，包括：换能器(1)、振子单元(2)、固定装置(3)、耦合介质层(4)和阻抗变压器(8)，所述振子单元(2)通过所述固定装置(3)安装于所述换能器(1)上，所述振子单元(2)与固定装置(3)之间设有所述耦合介质层(4)，所述振子单元(2)由所述阻抗变压器(8)的功率输出驱动；所述振子单元(2)包括：至少两个振子组，其中，每个振子组包括至少一个压电晶体振子，每个振子组中的多个压电晶体振子的固有机械振动频率相当。本发明能够产生表面湿法腐蚀清洗所需要的均匀性声场，减小或去除兆声波声场干涉现象对晶片腐蚀清洗效果的影响。 | ||
| 申请公布号 | CN102509713A | 申请公布日期 | 2012.06.20 |
| 申请号 | CN201110355677.3 | 申请日期 | 2011.11.10 |
| 申请人 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 发明人 | 吴仪;李春彦 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
| 主权项 | 一种用于湿法腐蚀及清洗工艺的兆声波换能装置，其特征在于，包括：换能器(1)、振子单元(2)、固定装置(3)、耦合介质层(4)和阻抗变压器(8)，所述振子单元(2)通过所述固定装置(3)安装于所述换能器(1)上，所述振子单元(2)与固定装置(3)之间设有所述耦合介质层(4)，所述振子单元(2)由所述阻抗变压器(8)的功率输出驱动；所述振子单元(2)包括：至少两个振子组，其中，每个振子组包括至少一个压电晶体振子，每个振子组中的多个压电晶体振子的固有机械振动频率相当。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层 | ||