| 发明名称 | 电子照相感光体及使用该感光体的成像装置和处理盒 | ||
| 摘要 | 本发明涉及电子照相感光体及使用该感光体的成像装置和处理盒。所述电子照相感光体包含导电性基体和依次设置于所述导电性基体上的感光层、中间层和表面层，所述中间层的厚度为2nm～70nm。所述感光层的折射率n1、所述中间层的折射率n2和所述表面层的折射率n3满足不等式n2＞n3＞n1。 | ||
| 申请公布号 | CN101551604B | 申请公布日期 | 2012.06.20 |
| 申请号 | CN200910004897.4 | 申请日期 | 2009.02.04 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 八木茂;岩永刚;西川雅之;鸟越诚之 |
| 分类号 | G03G5/047(2006.01)I;G03G5/14(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I | 主分类号 | G03G5/047(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 丁香兰;庞东成 |
| 主权项 | 一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包含导电性基体和依次设置于所述导电性基体上的感光层、中间层和表面层，所述中间层的厚度为2nm～70nm，所述感光层的折射率n1、所述中间层的折射率n2和所述表面层的折射率n3满足下述不等式(1)：不等式(1)：n2＞n3＞n1，其中，所述中间层包含第一材料，所述第一材料含有氧或氮中的至少一种和第13族元素作为主要元素，所述表面层包含第二材料，所述第二材料含有氧和第13族元素作为主要元素，并且所述第一材料和所述第二材料具有不同的组成式。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||