| 发明名称 | 降低经纳米研磨的碳酸钙再絮凝趋势的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种形成可印刷涂料(120)的方法，包括：提供碳酸钙、对分散剂和所述的碳酸钙进行混合、对所述的碳酸钙和所述的分散剂进行纳米研磨，以抑制经纳米研磨的碳酸钙发生再絮凝、在碱性pH条件下将混合物与粘合剂混合。根据一个举例的实施方式，涂料(120)可以施涂在媒体基片(110)的一面或多面上。 | ||
| 申请公布号 | CN101296983B | 申请公布日期 | 2012.06.13 |
| 申请号 | CN200680039992.2 | 申请日期 | 2006.10.26 |
| 申请人 | 惠普发展公司，有限责任合伙企业 | 发明人 | C·西尔;R·森 |
| 分类号 | C08K9/04(2006.01)I;C08K3/26(2006.01)I | 主分类号 | C08K9/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 赵苏林;李连涛 |
| 主权项 | 一种形成再絮凝倾向低的可印刷涂料(120)的方法，该方法包括：提供碳酸钙；将阴离子型分散剂或非离子型分散剂与所述的碳酸钙混合；对所述的碳酸钙和分散剂的混合物进行纳米研磨，以获得长度或直径小于150纳米的经纳米研磨的碳酸钙；和将所述的经纳米研磨的碳酸钙和分散剂与粘合剂进一步混合。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯州 | ||