发明名称 | 包含磁场整形导体的集成电路及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供至少有一个电导体(40)的一种集成电路布局,当电流流过该电导体时产生磁场,该磁场作用于所述电路布局的至少另外一部分。这个电导体(40)具有第一侧面朝向所述电路布局的至少另外一部分,并且包括一导电材料主线(41),以及连接到它的第一侧面用磁性材料制成的至少一条场整形带(42)。由于这条场整形带(42),减小了所述电导体(40)之上磁场分布的不均匀性。 | ||
申请公布号 | CN1864228B | 申请公布日期 | 2012.06.13 |
申请号 | CN200480029115.8 | 申请日期 | 2004.10.01 |
申请人 | NXP股份有限公司 | 发明人 | 金·潘励 |
分类号 | G11C11/16(2006.01)I | 主分类号 | G11C11/16(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
主权项 | 一种集成电路,具有至少一个电导体(40),当电流流过该电导体时产生磁场,该磁场用于在该集成电路的至少另外一部分上存储数据,所述至少另外一部分包括MRAM器件,该电导体(40)具有朝向所述集成电路的所述至少另外一部分的第一侧面,其中所述电导体(40)包括导电材料主线(41),该集成电路的特征在于由磁性材料制成的至少一条场整形带(42)设置在该电导体的第一侧面和所述至少另外一部分之间并连接到所述电导体的第一侧面。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |