发明名称 减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法
摘要 本发明公开了一种减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法,其采用有限元仿真软件建立以反射镜中心厚度和边缘宽度为参数的待优化反射镜的有限元模型;然后加载反射镜的热边界条件和结构边界条件,采用有限元仿真软件获得反射镜各节点的结构变形,进而计算反射镜通光孔径区域2D结构变形RMS值;在有限元仿真软件中设定反射镜的中心厚度和边缘宽度为设计变量,反射镜通光孔径2D结构变形RMS值为目标函数;改变反射镜中心厚度和边缘宽度的大小,使目标函数逼近最小;将目标函数最小值对应的反射镜中心厚度和边缘宽度作为优化结果。使用本发明能够在无需引入外加装置的基础上,减小各面反射镜的变形,降低反射镜变形对曝光系统光刻性能的影响。
申请公布号 CN102495468A 申请公布日期 2012.06.13
申请号 CN201110409462.5 申请日期 2011.12.09
申请人 北京理工大学 发明人 李艳秋;杨光华;刘菲
分类号 G02B27/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G02B27/00(2006.01)I
代理机构 北京理工大学专利中心 11120 代理人 杨志兵;高燕燕
主权项 一种减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法,用于对反射式极紫外光刻投影系统中的反射镜进行结构优化,其特征在于,该方法包括:采用有限元仿真软件建立以反射镜的中心厚度和边缘宽度为参数的待优化反射镜的有限元模型,其中,所述边缘宽度为通光口径外边缘到反射镜边缘的径向距离;然后加载反射镜的热边界条件和结构边界条件,采用有限元仿真软件获得反射镜有限元模型各节点的结构变形,计算通光口径内所有节点的XY平面内结构变形的均方根RMS值,即为反射镜通光孔径区域2D结构变形RMS值;所述XY平面垂直于反射镜光轴;在有限元仿真软件提供的优化设计器中设定反射镜的中心厚度和边缘宽度为设计变量,所述反射镜通光孔径2D结构变形RMS值为目标函数;利用优化设计器在反射镜的中心厚度和边缘宽度的取值范围内改变反射镜中心厚度和边缘宽度的大小,使目标函数逼近最小;将目标函数最小值对应的反射镜中心厚度和边缘宽度作为优化结果。
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