| 发明名称 | 制造液晶显示设备的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种制造液晶显示设备的方法。所述方法包括：制造液晶板，所述液晶板被分为透光区和非透光区，并且包括上基底、下基底以及填充在所述上基底和下基底之间的液晶层，所述上基底和下基底彼此隔开并且相对，其中，所述下基底具有多个薄膜晶体管；在暴露于所述液晶板的外部的所述上基底上沉积具有一定厚度的透明导电层；以及由于所述透明导电层的结构特性，通过进行蚀刻处理，以去除整个所述透明导电层和所述上基底的一部分，从而在暴露于外部的所述上基底的表面上形成不规则的凸起部和凹陷部。因此，能够通过漫反射外光和散射内光提高可读性和对比度。 | ||
| 申请公布号 | CN101285956B | 申请公布日期 | 2012.06.13 |
| 申请号 | CN200810090690.9 | 申请日期 | 2008.04.09 |
| 申请人 | 京东方显示器科技公司 | 发明人 | 崔硕;张顺株;金秉勋 |
| 分类号 | G02F1/1333(2006.01)I;C03C25/68(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人 | 褚海英;陈桂香 |
| 主权项 | 一种制造液晶显示设备的方法，所述方法包括：(a)制造液晶板，所述液晶板被分为透光区和非透光区，并且包括上基底、下基底以及填充在所述上基底和下基底之间的液晶层，所述上基底和下基底彼此隔开并且相对，其中，所述下基底具有多个薄膜晶体管；(b)在暴露于所述液晶板的外部的所述上基底上沉积具有一定厚度的透明导电层；以及(c)由于所述透明导电层的结构特性，通过进行蚀刻处理，以去除整个所述透明导电层和所述上基底的一部分，从而在暴露于外部的所述上基底的表面上形成不规则的凸起部和凹陷部。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||