发明名称 |
多晶硅还原炉喷嘴 |
摘要 |
本实用新型公开了一种多晶硅还原炉喷嘴,包括喷嘴和套管,所述喷嘴具有可固定于还原炉底盘上的底座、位于底座上方的接口、置于接口中部的喷头、以及上下贯穿底座与喷头的进气喷口,所述套管固定在喷嘴的接口上,喷头伸入套管内,进气喷口与套管的内管径相连通。本实用新型还原炉喷嘴可使三氯氢硅和氢气的混合气体由下自上从进气喷口处直接通过套管进行接触传热,从而加快了气体的流动速度,使还原炉体内辐射的热能得以充分的利用,达到降低电耗的目的。 |
申请公布号 |
CN202246091U |
申请公布日期 |
2012.05.30 |
申请号 |
CN201120324245.1 |
申请日期 |
2011.08.31 |
申请人 |
湖北晶星科技股份有限公司 |
发明人 |
汪应军;刘憧 |
分类号 |
C01B33/03(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/03(2006.01)I |
代理机构 |
广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 |
代理人 |
黄为 |
主权项 |
一种多晶硅还原炉喷嘴,包括喷嘴和套管,其特征在于:所述喷嘴具有可固定于还原炉底盘上的底座、位于底座上方的接口、置于接口中部的喷头、以及上下贯穿底座与喷头的进气喷口,所述套管一端固定在喷嘴的接口上,喷头伸入套管内,进气喷口与套管的内管径相连通。 |
地址 |
441300 湖北省随州市经济技术开发区湖北晶星科技股份有限公司 |