磁控溅射镀膜阴极装置

摘要

本发明涉及一种磁控溅射镀膜阴极装置，包括靶筒和位于所述靶筒内的磁棒管材，所述靶筒包括靶材内筒和覆盖在所述靶材内筒外表面的溅射靶材，所述磁棒管材内部安装有提供溅射用磁场的磁铁并设有冷却水通道，所述冷却水通道包括进水通道、多个在磁场区附近沿磁棒管材长度方向分布的出水孔、回水孔及回水通道。通过在磁棒管材的溅射区附近表面设置多个出水孔，冷却水可以从进水通道通过出水孔均匀喷射到靶材内筒，相比传统的单端进水冷却，冷却水在长度方向上的冷却效果更均匀，旋转阴极磁棒管材沿长度方向上的磁场强度变化很小，溅射靶材在长度方向上温差很小，从而使镀膜均匀性得到显著提高。

主权项

一种磁控溅射镀膜阴极装置，包括靶筒和位于所述靶筒内的磁棒管材，所述靶筒包括靶材内筒和覆盖在所述靶材内筒外表面的溅射靶材，所述磁棒管材内部安装有提供溅射用磁场的磁铁并设有冷却水通道，其特征在于，所述冷却水通道包括进水通道、回水通道、多个在磁场区附近沿磁棒管材长度方向分布的出水孔及在所述磁棒管材出水孔反向设置的回水孔；冷却水从磁棒管材内部的一端进入所述进水通道通过多个出水孔喷射到靶材内筒，再沿靶材内筒内壁流入所述回水孔从所述回水通道流出。