控制限制环位置的直接驱动装置及其方法

摘要

本发明提供了一种在衬底处理期间控制等离子体处理系统处理腔的受限区域内压强大小的直接驱动装置。所述受限区域是由所提供的限制环围绕的腔容积空间。所述装置包括被配置用于通过马达组件改变压强的活塞组件，所述马达组件被配置用于垂直移动所述活塞组件并记录所述活塞组件的设定点位置值。所述装置进一步包括被配置用于驱动所述马达组件以移动所述活塞组件从而改变所述受限区域内所述压强大小的成套电路。所述成套电路还被配置用于将功率提供到所述马达组件。所述成套电路被进一步配置用于从所述马达组件接收所述设定点位置值。

主权项

一种在衬底处理期间控制等离子处理系统处理腔的受限区域内压强大小的直接驱动装置，其中所述受限区域是由成套限制环围绕的腔容积空间，所述直接驱动装置包括：多个活塞组件，其被配置为至少用于通过垂直移动所述成套限制环改变所述受限区域内的所述压强大小；多个马达组件，其被配置为至少用于垂直移动所述多个活塞组件，且为所述多个活塞组件记录多个设定点位置值；以及成套电路，其被配置为至少用于驱动所述多个马达组件以移动所述多个活塞组件从而改变所述受限区域内的所述压强大小，且将功率提供到所述多个马达组件以移动所述多个活塞组件，且接收来自所述多个马达组件的所述多个设定点位置值。