发明名称 |
激光可调节深度标记系统和方法 |
摘要 |
本发明提供了一种用于深度可调节的激光标记的设备和方法。在一个实施例中,该系统用在Nd-YAG激光标记机中,用于在半导体工业中进行晶片加工,该系统具有对标记深度和在深标记和浅标记之间调整工作范围的智能控制。 |
申请公布号 |
CN101486278B |
申请公布日期 |
2012.05.23 |
申请号 |
CN200810000675.0 |
申请日期 |
2008.01.14 |
申请人 |
AXT公司;北京通美晶体技术有限公司 |
发明人 |
Y·耿;X·赵 |
分类号 |
B41J2/475(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I;G02B7/00(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/475(2006.01)I |
代理机构 |
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 |
代理人 |
王勇 |
主权项 |
一种激光标记设备,包括:用于产生激光的激光发生单元;用于为所述激光发生单元供电的激光电源;用于产生扩展的激光的扩束器;可调节的偏振设备,包括角度可变的偏振镜角设备,用于改变从其中穿过的激光的偏振,其中该可调节的偏振设备根据该角度的变化调整扩展的激光的能量密度;以及用于接收调整了能量密度的扩展的激光并将其指向一片材料表面的振镜扫描元件,其中,通过该偏振镜角设备的角度变化而实现的对调整了能量密度的扩展的激光的控制使得所述激光标记设备能够在所述该片材料表面上产生具有低飞溅的标记。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |