真空镀膜用处理装置

摘要

本发明提供了一种真空镀膜用处理装置，包括柜体、处理板及蒸发源，柜体呈中空结构，中空结构形成密封腔，蒸发源与处理板设置于密封腔内，且处理板位于蒸发源上方，其中，还包括挡板机构，挡板机构包括挡板、磁流体、冷却轴及挡板驱动机构，磁流体安装于柜体上，挡板驱动机构位于柜体外并与冷却轴的一端连接，冷却轴的另一端枢接地穿过磁流体并伸入密封腔内，挡板与冷却轴固定连接，挡板容置于密封腔内且位于蒸发源与处理板之间，挡板隔离或开通蒸发源与处理板的空间连接，挡板驱动机构驱动冷却轴，冷却轴带动挡板转动，一方面使得本发明的处理装置能最大限度地提高了基片镀膜层的品质，另一方面能最大限度上延长了本发明的处理装置的正常寿命。

主权项

一种真空镀膜用处理装置，包括柜体、处理板及蒸发源，所述柜体呈中空结构，所述中空结构形成密封腔，所述蒸发源与所述处理板设置于所述密封腔内，且所述处理板位于所述蒸发源上方，其特征在于：还包括挡板机构，所述挡板机构包括挡板、磁流体、冷却轴及挡板驱动机构，所述磁流体安装于所述柜体上，所述挡板驱动机构位于所述柜体外并与所述冷却轴的一端连接，所述冷却轴的另一端枢接地穿过所述磁流体并伸入所述密封腔内，所述挡板与所述冷却轴固定连接，所述挡板容置于所述密封腔内且位于所述蒸发源与所述处理板之间，所述挡板隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接，所述挡板驱动机构驱动所述冷却轴，所述冷却轴带动所述挡板转动。