一种提高电子束曝光效率的方法

摘要

一种提高电子束曝光效率的方法：1)在需要光刻的片子上涂敷一层正性光刻胶，进行前烘；2)图形数据分割，对大尺寸图形部分进行光学曝光，进行后烘；3)正性光刻胶显形；4)等离子体氟化；5)烘烤加固；6)涂电子束负胶，进行前烘；7)对精细图形部分进行电子束曝光；8)后烘；9)电子束负胶显形，完成光刻图形制备。本发明的方法可以节省至少30％～60％的曝光时间，大大提高了曝光效率，大幅度降低了成本，而且完全与CMOS工艺兼容，不增加专门的设备。

主权项

一种提高电子束曝光效率的方法，主要步骤如下：步骤1)在需要光刻的片子上涂敷一层正性光刻胶，进行前烘；步骤2)图形数据分割，对大尺寸图形部分进行光学曝光，进行后烘；步骤3)正性光刻胶显形；步骤4)等离子体氟化；步骤5)烘烤加固；步骤6)涂电子束负胶，进行前烘；步骤7)对精细图形部分进行电子束曝光；步骤8)后烘；步骤9)电子束负胶显形，完成光刻图形制备。