| 发明名称 | 基板处理装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供基板处理装置及方法。基板处理装置，所述基板设置于位于处理室内的基座上，而由喷头向基板供应气体。高频电源通过高频线与喷头的第一侧面连接，而可变电容器通过电线与喷头的第一侧面相对的第二侧面连接。电线中不提供高频电源。 | ||
| 申请公布号 | CN102456532A | 申请公布日期 | 2012.05.16 |
| 申请号 | CN201110339328.2 | 申请日期 | 2011.11.01 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 尹沧老;安德烈·乌沙科夫;朴根怜;具教旭 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，包括：处理室；基座，位于上述处理室内并用于放置基板；喷头，位于上述处理室内并向上述基板供应气体；高频电源，通过高频线与上述喷头的第一侧面连接；可变电容器，通过电线与和上述喷头的第一侧面相对的第二侧面连接；而在上述电线中不提供高频电源。 | ||
| 地址 | 韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑毛*里278 | ||