发明名称 基板之处理装置(一)
摘要 本发明之课题系在于提供一种基板之处理装置,该处理装置系在倾斜搬送基板并进行处理时,可以支撑滚轮确实地支撑住基板之倾斜方向下侧之面者;该基板之处理装置包含有:多数处理室,系以较基板之宽度尺寸更小的宽度尺寸形成且并列设置,用以对基板进行各个预定处理;多数安装构件,系长度尺寸设定为较基板之高度尺寸更短,且在各处理室内于上下方向以预定间隔平行地设置;支撑滚轮,系可旋转地设于各安装构件上,用以支撑于处理室内以预定角度倾斜搬入之基板的倾斜方向下侧之面;及驱动滚轮,系可旋转驱动地设于各处理室内,且藉由支撑并旋转驱动基板之下端,而将该基板朝预定方向搬送,该基板系藉由支撑滚轮支撑倾斜方向下侧之面者。
申请公布号 TWI364069 申请公布日期 2012.05.11
申请号 TW094130358 申请日期 2005.09.05
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 日本 发明人 西部幸伸;矶明典
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 日本