发明名称 |
用于基板的金属层减厚方法及电解槽 |
摘要 |
本发明公开一种用以将金属层减厚的电解槽,其包含一电解液及至少一对阳极及阴极。所述阳极及阴极都位于所述电解液内,其中所述阳极具有一圆柱滚轮的外形,且所述金属层接触所述阳极。 |
申请公布号 |
CN101781790B |
申请公布日期 |
2012.05.09 |
申请号 |
CN200910003356.X |
申请日期 |
2009.01.16 |
申请人 |
日月光半导体制造股份有限公司 |
发明人 |
翁肇甫;王昱祺 |
分类号 |
C25F7/00(2006.01)I;C25F3/00(2006.01)I;H05K3/04(2006.01)I |
主分类号 |
C25F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 |
代理人 |
翟羽 |
主权项 |
一种用于基板金属层减厚的电解槽,其特征在于:所述电解槽包含:一电解液;以及至少一对阳极及阴极,都位于所述电解液内,其中所述阳极具有一圆柱滚轮的外形;所述电解槽内放置一基板,所述基板包含一介质层及一第一金属层,其中所述介质层具有相对的第一及第二表面,所述第一金属层配置于所述介质层的第一表面,所述第一金属层具有一表面;所述基板放置于旋转的所述阳极上;通过旋转的所述阳极移动所述基板,所述第一金属层的表面与所述阳极接触,使所述第一金属层的表面产生一氧化反应,以减少所述金属层厚度。 |
地址 |
中国台湾高雄市楠梓加工区经三路26号 |