| 发明名称 |
ORGANIC LAYER DEPOSITION APPARATUS |
| 摘要 |
An organic layer deposition apparatus capable of reducing or minimizing shifting of a pattern, caused when a patterning slit sheet sags.
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| 申请公布号 |
US2012103253(A1) |
申请公布日期 |
2012.05.03 |
| 申请号 |
US201113244391 |
申请日期 |
2011.09.24 |
| 申请人 |
PARK HYUN-SOOK;JO CHANG-MOG;LEE YUN-MI;CHANG SEOK-RAK |
发明人 |
PARK HYUN-SOOK;JO CHANG-MOG;LEE YUN-MI;CHANG SEOK-RAK |
| 分类号 |
B05B15/04 |
主分类号 |
B05B15/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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