发明名称 金属氧化物薄膜晶体管及其制备方法
摘要 本发明公开了一种金属氧化物薄膜晶体管,包括衬底,在衬底上形成有栅电极,在衬底和栅电极上形成有栅绝缘层,在栅绝缘层上对应于栅电极的部分形成有沟道层,在沟道层和栅绝缘层上面覆盖有保护层,在保护层的刻蚀孔和沟道层上形成有源电极和漏电极,所述保护层分为第一保护层和第二保护层两层,第一保护层覆盖在沟道层和栅绝缘层上面,第二保护层覆盖在第一保护层上面,第二保护层的硬度和致密性大于第一保护层。本发明还公开了一种金属氧化物薄膜晶体管的制备方法。本发明的技术方案,能使金属氧化物薄膜晶体管电学特性比较稳定。
申请公布号 CN102437194A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201110374972.3 申请日期 2011.11.22
申请人 上海中科高等研究院 发明人 张其国;汪梅林;韩学斌;朱棋锋;申剑锋
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 王江富
主权项 一种金属氧化物薄膜晶体管,包括衬底,在衬底上形成有栅电极,在衬底和栅电极上形成有栅绝缘层,在栅绝缘层上对应于栅电极的部分形成有沟道层,在沟道层和栅绝缘层上面覆盖有保护层,在保护层的刻蚀孔和沟道层上形成有源电极和漏电极,其特征在于,所述保护层分为第一保护层和第二保护层两层,第一保护层覆盖在沟道层和栅绝缘层上面,第二保护层覆盖在第一保护层上面,第二保护层的硬度和致密性大于第一保护层。
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