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发明名称
光罩及图样形成方法
摘要
【课题】即使在周期性的图样以外的部分,正确地形成图样。;【解决手段】在曝光中,组合并使用:第1光罩,包括真;图样,对应于在被加工膜上实际形成的图样,及假图样,被附加以使得光罩内的图样间距位于预定的范围内;与第2光罩,具有一图样,以区分真图样被形成之区域与假图样被形成之区域。在形成图样时,在基板上形成被加工膜之后,在被加工膜上,透过使用第1光罩的微影,形成第1罩幕,在前述被加工膜上,透过使用第2光罩的微影,形成第2罩幕。其后,以第1、第2罩幕作为罩幕,蚀刻被加工膜,以形成图样。
申请公布号
TWI363369
申请公布日期
2012.05.01
申请号
TW093132169
申请日期
2004.10.22
申请人
瑞萨电子股份有限公司 日本
发明人
萩原琢也
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址
日本
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