发明名称 | 压印光刻 | ||
摘要 | 在实施例中公开了一种压印方法,包括将衬底上的可压印媒介的第一和第二间隔目标区分别与第一和第二模板接触,以在媒介中形成相应的第一和第二压印,以及将第一和第二模板与被压印媒介分离。 | ||
申请公布号 | CN1800974B | 申请公布日期 | 2012.04.25 |
申请号 | CN200510104720.3 | 申请日期 | 2005.12.22 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | K·西蒙 |
分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
主权项 | 一种压印方法,包括:提供具有可压印媒介的衬底的第一和第二间隔的目标区域;使第一和第二间隔的目标区域分别与第一和第二模板接触,以在媒介中形成相应的第一和第二压印;将第一和第二模板与被压印媒介分离;提供具有可压印媒介的衬底的第三和第四目标区域;在从媒介的第一区域到第三区域的第一方向上移动第一模板,并在从媒介的第二区域到第四区域的第二方向上移动第二模板;以及使第三和第四间隔的目标区域分别与第一和第二模板接触,以在媒介中形成相应的第三和第四压印。 | ||
地址 | 荷兰维尔德霍芬 |