| 发明名称 | 少落尘的真空磁控溅射镀膜设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种少落尘的真空磁控溅射镀膜设备，设有溅射区，所述溅射区内设有磁控溅射阴极的靶材及组件，其特征在于：所述磁控溅射阴极的遮蔽板上设有不锈钢网。在应用真空磁控溅射镀膜方法镀制玻璃时，本发明通过在阴极遮蔽板上加装不锈钢网，增加了未溅射到基板上的离子与阴极遮蔽板的接触面积及吸附力，从而有效地减少镀膜玻璃上产生落尘的几率，大大地提高了镀膜产品的良品率，降低镀膜设备保养的频率。 | ||
| 申请公布号 | CN102409312A | 申请公布日期 | 2012.04.11 |
| 申请号 | CN201110374715.X | 申请日期 | 2011.11.23 |
| 申请人 | 林嘉宏 | 发明人 | 林嘉宏 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人 | 董建林 |
| 主权项 | 一种少落尘的真空磁控溅射镀膜设备，设有溅射区，所述溅射区内设有磁控溅射阴极的靶材及组件，其特征在于：所述磁控溅射阴极的遮蔽板上设有不锈钢网。 | ||
| 地址 | 215321 江苏省苏州市昆山市张浦镇台玻路1号 | ||