发明名称 |
一种新型等离子体处理装置 |
摘要 |
本实用新型揭示了一种新型等离子体处理装置,整体处于负压环境,其包含自内而外相嵌套的内管、绝缘管和外管,其中内管接高频电源,外管接地,该两者均为金属管,且两者由中间的绝缘管隔开绝缘;该处理装置的三层套管结构一端设为气源接口,另一端封闭,且处理装置穿透内管、绝缘管及外管设有至少一个排孔,该排孔相对待处理材料的距离满足等离子体中电子或离子自我消除,仅保留激发态粒子。本实用新型等离子体处理装置的应用实施,在相同的放电功率下,该结构喷射出的等离子体粒子能量高,粒子浓度大,更适合一些较难处理的材料;由于具备远程优势,副反应较少,处理目的较纯,减少了对材料表明的损伤,同时热应力较低,该结构可以对敏感材料进行处理。 |
申请公布号 |
CN202183908U |
申请公布日期 |
2012.04.04 |
申请号 |
CN201120288544.4 |
申请日期 |
2011.08.10 |
申请人 |
苏州工业职业技术学院 |
发明人 |
温贻芳;陈新;芮延年;王红卫 |
分类号 |
H05H1/26(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/26(2006.01)I |
代理机构 |
南京苏科专利代理有限责任公司 32102 |
代理人 |
陈忠辉 |
主权项 |
一种新型等离子体处理装置,其特征在于:所述处理装置整体处于负压环境,其包含自内而外相嵌套的内管、绝缘管和外管,其中内管接高频电源,外管接地,该两者均为金属管,且两者由中间的绝缘管隔开绝缘;所述处理装置的三层套管结构一端设为气源接口,另一端封闭,且处理装置穿透内管、绝缘管及外管设有至少一个排孔,所述排孔相对待处理材料的距离满足等离子体中电子或离子自我消除,仅保留激发态粒子。 |
地址 |
215104 江苏省苏州市吴中区吴中大道1168号 |