发明名称 RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 A resist composition includes: a crosslinking material that is crosslinked in the presence of an acid; an acid amplifier; and a solvent.
申请公布号 US2012077343(A1) 申请公布日期 2012.03.29
申请号 US201113238004 申请日期 2011.09.21
申请人 ARIMITSU KOJI;MATSUZAWA NOBUYUKI;MITA ISAO;SONY CORPORATION 发明人 ARIMITSU KOJI;MATSUZAWA NOBUYUKI;MITA ISAO
分类号 H01L21/311;G03F7/004 主分类号 H01L21/311
代理机构 代理人
主权项
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