| 发明名称 | 用于保护光掩模的胶粘带 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于保护光掩模的胶粘带，该胶粘带在与具有粘合性的光致抗蚀剂相贴合并反复使用时也可以在剥离性不下降的情况下使用。其含有透明基体材料膜或片(A)、和在基体材料膜或片(A)的一面形成的粘合剂层(B)、及在与形成粘合剂层(B)的面相反的一面形成的表面层(C)，其中，表面层(C)由特定的固化物构成，所述固化物由含有异氰酸酯硅烷(x)和末端具有羟基的硅氧烷(y)的混合物获得。 | ||
| 申请公布号 | CN101589340B | 申请公布日期 | 2012.03.28 |
| 申请号 | CN200880002921.4 | 申请日期 | 2008.03.14 |
| 申请人 | 积水化学工业株式会社 | 发明人 | 多田博士;神谷信人 |
| 分类号 | G03F1/48(2012.01)I;C09J7/02(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/48(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 张平元 |
| 主权项 | 一种用于保护光掩模的胶粘带，其包括透明基体材料膜或片(A)、形成在透明基体材料膜或片(A)的一面上的粘合剂层(B)以及在与形成有粘合剂层(B)的面相反的一面上形成的表面层(C)，其中，表面层(C)由下述固化物形成，所述固化物由含有下述(x)和(y)的混合物得到，(x)：异氰酸酯硅烷，(y)：末端具有羟基的硅氧烷。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||