发明名称 Plasma-Strahlungsquelle und Anordnung zur Erzeugung eines Gasvorhangs für Plasma-Strahlungsquellen
摘要 Plasma-Strahlungsquelle, die von einem Quellbereich in einer Vakuumkammer (1) ausgehende Strahlung in einen definierten Raumwinkel durch einen zur Debris-Unterdrückung vorgesehenen und durch einen Überschall-Gasstrahl (7) gebildeten Gasvorhang hindurch entlang einer Achse (X-X) der mittleren Ausbreitungsrichtung der Strahlung abstrahlt und bei der zur Erzeugung des Überschall-Gasstrahls (7) und zum Herausführen aus der Vakuumkammer (1) eine Gasstrahl-Vakuumpumpe (3) vorgesehen ist, bestehend aus einer auf der Achse (X-X) der mittleren Ausbreitungsrichtung angeordneten Treibdüse (2), einer koaxial zu der Achse (X-X) angeordneten und sich zu einem ringförmigen Hals (9) verjüngenden ringförmigen Mischdüse (8), deren Gaseintrittsöffnung auf die im Ringzentrum befindliche Treibdüse (2) weist, und einem vom Ringzentrum weggerichtet arbeitenden ringförmigen Diffusor (10), in den der ringförmige Hals (9) übergeht.
申请公布号 DE10337667(B4) 申请公布日期 2012.03.22
申请号 DE2003137667 申请日期 2003.08.12
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 SCHUERMANN, MAX C., DR.;SEHER, BERND;MUELLER, LUTZ;MISALLA, THOMAS, DR.
分类号 H05G2/00;G03F7/20;H05H1/34;H05H1/46 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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