发明名称 | 电镀装置的遮蔽装置 | ||
摘要 | 一种电镀装置的遮蔽装置,该遮蔽装置包括:两固定遮板,分别穿设有多个洞孔;多个纵向活动遮片,分别置于该固定遮板一侧,且为一作动机构联动地沿该固定遮板位移;两横向活动遮片,滑置于该电镀槽中,分别位于两该固定遮板的一侧,平时自动上升,可为该被镀物下推潜入电镀液中。其除了可以藉由固定遮板的各洞孔将欲镀物电解的离子流,均匀地流向、附着于被镀物上外,更可藉由纵向活动遮片及横向活动遮片遮蔽该电镀装置中的固定遮板的纵向及横向部分洞孔,使该固定遮板的其它洞孔所构成的区域,可吻合被镀物的大小,而投影于该被镀物上,使阳极游离至阴极的金属离子可以穿过各洞孔后均匀地附着于被电镀物上,避免产生尖端效应,以增进电镀品质。 | ||
申请公布号 | CN202164371U | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
申请号 | CN201120239502.1 | 申请日期 | 2011.07.08 |
申请人 | 陈中和 | 发明人 | 陈中和 |
分类号 | C25D17/00(2006.01)I | 主分类号 | C25D17/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京天平专利商标代理有限公司 11239 | 代理人 | 孙刚 |
主权项 | 一种电镀装置的遮蔽装置,该电镀装置含有一电镀槽,于该电镀槽的两侧装置有连接阳极的欲镀物,并于该电镀槽的中央滑置连接阴极的被镀物;其特征在于,该遮蔽装置包括:两固定遮板,置于两该欲镀物与被镀物间,且分别穿设有多个洞孔;多个纵向活动遮片,分别置于该固定遮板一侧,且为一作动机构联动地沿该固定遮板位移,遮蔽该固定遮板的纵向部分洞孔;以及两横向活动遮片,滑置于该电镀槽中,且分别位于两该固定遮板的一侧,形成平时受电镀液的浮力自动上升,且为该被镀物下降而下推地潜入电镀液中,遮蔽该固定遮板的横向部分洞孔的结构。 | ||
地址 | 中国台湾新北市新庄区新树路260之5号 |