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Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer optischen Achse (OA) und einer polarisationsbeeinflussenden Anordnung (10), wobei diese Anordnung (10, 40, 50) enthält: • eine erste Keilplatte (11, 41, 51) mit einer ersten Keilrichtung, welche senkrecht zur optischen Achse (OA) in Richtung maximaler Dickenänderung der ersten Keilplatte (11, 41, 51) verläuft; und • eine zweite Keilplatte (12, 42, 52) mit einer zweiten Keilrichtung, welche senkrecht zur optischen Achse (OA) in Richtung maximaler Dickenänderung der zweiten Keilplatte (12, 42, 52) verläuft; • wobei die erste Keilplatte (11, 41, 51) und die zweite Keilplatte (12, 42, 52) um die optische Achse (OA) herum drehbar angeordnet sind; • wobei die erste Keilplatte (11, 41, 51) und die zweite Keilplatte (12, 42, 52) jeweils aus doppelbrechendem Kristallmaterial mit jeweils einer optischen Kristallachse (oa-1, oa-2) hergestellt sind; und • wobei in einer Ausgangsstellung der Anordnung (10, 40, 50), in welcher die erste...
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