发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
本发明提供一种提高集电极-发射极电流特性、缩短下降时间、特别是提高寄生半导体开关元件闭锁耐受性的半导体装置。本发明是由多个单元半导体元件组成的横向型半导体装置,各单元半导体元件由IGBT组成,包含:第1导电型的半导体衬底;设置在该半导体衬底内的第2导电型的半导体区;设置在该半导体区内的第1导电型的集电极层;在该半导体区中、与该集电极层隔开、设置得包围该集电极层的环形第1导电型基极层;设置在该基极层中,呈环形配置的第2导电型的第1发射极层,该第1发射极层和该集电极层之间的载流子移动用形成于该基极层内的沟道区进行控制,各个单元半导体元件设置得彼此相邻。 |
申请公布号 |
CN101685819B |
申请公布日期 |
2012.02.29 |
申请号 |
CN200910204953.9 |
申请日期 |
2006.12.13 |
申请人 |
三菱电机株式会社 |
发明人 |
幡手一成 |
分类号 |
H01L27/082(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/082(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
何欣亭;李家麟 |
主权项 |
一种由多个单元半导体元件组成的横向半导体装置,其特征在于,各单元半导体元件由IGBT组成,各个单元半导体元件被设置成彼此相邻,在上述基极层中,以包围上述第1发射极层的方式,设置有第1导电型的第2发射极层,在由分别包含于相邻的两个上述单元半导体元件的上述第2发射极层和两个该第2发射极层共同的切线包围的区域中,设置有第1导电型的区域,上述IGBT包含:第1导电型的半导体衬底;设置在该半导体衬底上的第2导电型的半导体区;设置在该半导体区中的第1导电型的集电极层;在该半导体区中,以与该集电极层隔开间隔,并包围该集电极层的方式,设置的环形第1导电型的基极层;以及设置在该基极层中,呈环形配置的第2导电型的第1发射极层,并且,用形成于该基极层上的沟道区控制该第1发射极层和该集电极层之间的载流子的移动。 |
地址 |
日本东京都 |