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Procedimiento para la producción de un revestimiento de resistencia, en el que (a) se reviste un sustrato con una composición de resistencia que contiene al menos un componente que absorbe la radiación en el intervalo del infrarrojo cercano de 760 a 1400 nm bajo calentamiento del revestimiento; y (b) la composición de resistencia o una composición derivada de ella, obtenida durante el procedimiento, se somete a un tratamiento térmico en el transcurso del procedimiento al menos una vez con ayuda de radiación en el intervalo de longitudes de onda de 760 a 1400 nm, en donde los dispositivos de radiación para la radiación en el intervalo de ondas de 760 a 1400 nm se disponen de modo que irradian toda la anchura de una cinta de montaje conducida por debajo de ellos, sobre la que los sustratos provistos del revestimiento de resistencia son movidos hacia delante, caracterizado porque el tratamiento térmico se lleva a cabo en el espacio de 1 a 60 segundos, y la composición de resistencia contiene un sistema de componentes fotoendurecible así como un sistema de componentes endurecible de forma puramente térmica.
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