Verfahren zum Herstellen von intermetallischen Sputtertargets

摘要

Verfahren zum Herstellen eines intermetallischen Sputtertargets, dadurch gekennzeichnet, dass man ein erstes Metallpulver mit mindestens einem zweiten Metallpulver mischt, wobei der Schmelzpunkt des ersten Metallpulvers kleiner ist als der Schmelzpunkt des mindestens einen zweiten Metallpulvers; das Gemisch der Metallpulver in einem ummantelten Reaktionsgefäß auf eine erste Temperatur bis zur Bildung einer intermetallischen Struktur erwärmt wird, die mindestens einen Schmelzpunkt hat, wobei die erste Temperatur 100 bis 400°C unterhalb des Schmelzpunkts des ersten Metallpulvers liegt; die intermetallische Struktur direkt anschließend in dem ummantelten Reaktionsgefäß auf eine zweite Temperatur erwärmt wird, die mehr als 50 bis 300°C unterhalb des mindestens einen Schmelzpunkts der intermetallischen Struktur liegt; und zur Bildung eines hochdichten intermetallischen Sputtertargets gleichzeitig auf die intermetallische Struktur Druck ausgeübt wird.