发明名称 一种MOCVD设备喷淋头装置
摘要 本发明公开了一种MOCVD设备新型喷淋头装置,该装置包括一气体分配单元和一喷射室围设形成一密闭空间,该气体分配单元包括一进气端面和若干进气分组隔板,进气端面包括若干气体通过区和若干气体阻挡区,进气分组隔板将所述进气端面按照不同进气组相互隔断;喷射室包括一出气端面和若干出气隔板,出气端面上开设若干贯通出气孔,出气隔板分隔喷射室;气体分配单元的气体通过区和所述喷射室的出气孔构成若干垂直分隔气路单元,同一进气分组隔板内的若干垂直分隔气路单元构成一组垂直分隔气路。本发明采用气路垂直分隔设计思想,气流分隔完成后不同气体按各自通道交替间隔进气,实现了不同气体的隔离输送并最终在同一空间实现均匀混合。
申请公布号 CN101921996B 申请公布日期 2012.02.15
申请号 CN201010254817.3 申请日期 2010.08.17
申请人 彭继忠 发明人 彭继忠
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 郭蔚
主权项 一种MOCVD设备喷淋头装置,其特征在于,所述喷淋头装置包括一气体分配单元和一喷射室围设形成一密闭空间,其中:所述气体分配单元包括一进气端面和若干进气分组隔板,所述进气端面包括若干气体通过区和若干气体阻挡区,所述进气分组隔板将所述进气端面按照不同进气组相互隔断;所述喷射室包括一出气端面和若干出气隔板,所述出气端面上开设若干贯通出气孔,所述出气隔板分隔所述喷射室;其中,所述气体分配单元的气体通过区和所述喷射室的出气孔构成若干垂直分隔气路单元,所述同一进气分组隔板内的若干垂直分隔气路单元构成一组垂直分隔气路。
地址 201204 上海市浦东新区白杨路199弄4号601室