发明名称 基于归一化最速下降法光刻配置参数的优化方法
摘要 本发明提供一种基于归一化最速下降法光刻配置参数的优化方法,具体步骤为:确定欲优化的n种光刻配置参数,确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标yj,获取最速下降方向,并对光刻配置参数进行归一化,针对光归一化后的刻配置参数{xi}k,在其所对应的变化范围{[ui,vi]}k内,沿其对应的最速下降方向{di}k进行一维搜索,得到该方向最小的F值,记为Fmin,获取Fmin对应的光刻配置参数{xi}k,并将{xi}k作为下一次循环的光刻配置参数,当循环次数是否达最大或满足搜索精度时,结束优化。本发明统筹考虑各种光刻评价指标,通过构造具有多种光刻性能评价指标的评价函数,实现对优化结果进行评价,因此使得优化后的光刻配置参数具有很好的光刻性能。
申请公布号 CN102346380A 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN201110353893.4 申请日期 2011.11.09
申请人 北京理工大学 发明人 李艳秋;郭学佳
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京理工大学专利中心 11120 代理人 李爱英;杨志兵
主权项 1.一种基于归一化最速下降法光刻配置参数的优化方法,其特征在于,具体步骤为:步骤101、确定欲优化的n种光刻配置参数,针对每一种光刻配置参数选定一初始值构成1×n维矩阵{s<sub>i</sub>}<sub>1</sub>={s<sub>1</sub>,s<sub>2</sub>,L,s<sub>n</sub>}<sub>1</sub>,i={1,2,L,n};确定每种光刻配置参数的变化范围{s<sub>i</sub>∈[a<sub>i</sub>,b<sub>i</sub>]}={[a<sub>1</sub>,b<sub>1</sub>],[a<sub>2</sub>,b<sub>2</sub>]L,[a<sub>n</sub>,b<sub>n</sub>]},确定每种光刻配置参数用于求解差商的归一化差值{Δx<sub>i</sub>∈(0,1]},其中|Δx<sub>i</sub>|<<1;给定优化精度允许误差ε>0,最大一维搜索次数k<sub>max</sub>,并令循环次数k=1;步骤102、确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标y<sub>j</sub>,j={1,2,L,m},并构造光刻性能综合评价函数<img file="FDA0000106720970000011.GIF" wi="322" he="119" />其中γ<sub>j</sub>为针对各光刻性能评价指标设定的比重值;步骤103、对循环次数k进行判断,若k≤k<sub>max</sub>,则进入步骤104,若k>k<sub>max</sub>,则进入步骤109;步骤104、将光刻配置参数{s<sub>i</sub>}<sub>k</sub>归一化,即令<img file="FDA0000106720970000012.GIF" wi="433" he="148" />即集合{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>中的每一元素的范围都在0至1之间;步骤105、针对光刻配置参数{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>计算其差商,获取最速下降方向{d<sub>i</sub>}<sub>k</sub>,<maths num="0001"><![CDATA[<math><mrow><msub><mrow><mo>{</mo><msub><mi>d</mi><mi>i</mi></msub><mo>}</mo></mrow><mi>k</mi></msub><mo>=</mo><msub><mrow><mo>{</mo><mo>-</mo><mo>&dtri;</mo><mi>f</mi><mrow><mo>(</mo><msub><mrow><mo>{</mo><msub><mi>x</mi><mi>i</mi></msub><mo>}</mo></mrow><mi>k</mi></msub><mo>)</mo></mrow><mo>}</mo></mrow><mi>k</mi></msub><mo>=</mo><msub><mrow><mo>{</mo><mo>-</mo><mfrac><mrow><mi>F</mi><mrow><mo>(</mo><msub><mrow><mo>{</mo><msub><mi>x</mi><mi>i</mi></msub><mo>}</mo></mrow><mi>k</mi></msub><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><mi>F</mi><mrow><mo>(</mo><mo>{</mo><msub><mrow><mo>{</mo><msub><mi>x</mi><mi>i</mi></msub><mo>}</mo></mrow><mi>k</mi></msub><mo>-</mo><mi>&Delta;</mi><msub><mi>x</mi><mi>i</mi></msub><mo>}</mo><mo>)</mo></mrow></mrow><mrow><mo>{</mo><mi>&Delta;</mi><msub><mi>x</mi><mi>i</mi></msub><mo>}</mo></mrow></mfrac><mo>}</mo></mrow><mi>k</mi></msub><mo>,</mo></mrow></math>]]></maths>{d<sub>i</sub>}<sub>k</sub>为1×n维矩阵;;步骤106、对‖{d<sub>i</sub>}<sub>k</sub>‖进行判断,当判定‖{d<sub>i</sub>}<sub>k</sub>‖≤ε,进入步骤107,否则进入步骤109,其中‖‖为取模运算;步骤107、针对光刻配置参数{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>,根据其对应的最速下降方向{d<sub>i</sub>}<sub>k</sub>更新其所对应的一维搜索变化范围为{x<sub>i</sub>∈[u<sub>i</sub>,v<sub>i</sub>]}<sub>k</sub>,其中{[u<sub>i</sub>,v<sub>i</sub>]}<sub>k</sub>中每一元素的范围都在0至1之间;步骤108、针对光刻配置参数{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>,在其所对应的变化范围{[u<sub>i</sub>,v<sub>i</sub>]}<sub>k</sub>内,沿其对应的最速下降方向{d<sub>i</sub>}<sub>k</sub>进行一维搜索,得到该方向最小的F值,记为F<sub>min</sub>,获取F<sub>min</sub>对应的光刻配置参数{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>,并将{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>作为下一次循环的光刻配置参数{s<sub>i</sub>}<sub>k</sub>,令k=k+1,返回步骤103。步骤109、输出最优光刻配置参数{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>,以及{x<sub>i</sub>}<sub>k</sub>所对应的F值。
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